一、光刻膠怎么保存

1、溫度：光刻膠應存放在低溫環(huán)境下，一般建議存放在-20℃以下的冰箱中，避免光刻膠受熱變質。同時，光刻膠在存放和使用過程中應避免受到溫度變化的影響，以免影響其性能和質量。

2、光照：光刻膠應避免直接暴露在強光下，以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此，在存放和使用光刻膠時，應盡量避免光照，可以使用黑色遮光袋或黑色遮光箱進行保護。

3、濕度：光刻膠應存放在干燥的環(huán)境中，避免受潮。因為潮濕的環(huán)境會影響光刻膠的性能和質量，甚至會導致光刻膠失效。因此，在存放和使用光刻膠時，應盡量避免受潮，可以使用密封袋或密封容器進行保護。

4、震動：光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動，以免影響其性能和質量。因此，在存放和使用光刻膠時，應盡量避免受到震動和振動，可以使用泡沫箱或其他緩沖材料進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的，除了有溫度的要求外，對于儲存時間和外包裝材料有很嚴格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝，再套上黑色塑料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右，具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此，在存放和使用光刻膠時，應注意光刻膠的保存期限，避免使用過期光刻膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同，原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動，從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度，所以光刻膠涂布溫度一般為23度。一般在旋涂的情況下，高于會中間厚，低于會中間薄。同時涂布前，wafer也需要冷板，保證每次涂布wafer的溫度一致。

3、涂布時濕度的控制

現在光刻膠涂覆工段一般都與自動純水清洗線連在一起，很多時候都只考慮此段的潔凈度，而疏忽了該段的濕度控制，使得光刻膠涂覆的良品率比較低，在顯影時光刻膠脫落嚴重，起不到保護阻蝕的效果。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在生產設備出現故障等特殊情況下，涂完光刻膠的產品需要保留，保留的時間一般不超過8小時，曝光前如已被感（即膠膜已失效），不能作為正品，需返工處理。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘的目的是促使膠膜內溶劑充分揮發(fā)，使膠膜干燥以增強膠膜與基板表面的粘附性和膠膜的耐磨性。曝光時，掩模版與光刻膠即使接觸也不會損傷光刻膠膜和沾污掩模膜，同時只有光刻膠干凈、在曝光時，光刻膠才能充分地和光發(fā)生反應。同時注意前烘的溫度不能過高，過高會造成光刻膠膜的碳化，從而影響光刻效果。一般情況下，前烘的溫度取值比后烘堅膜溫度稍低一些，時間稍短一些。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中，溫度和時間直接影響的速度，若顯影時間不足或溫度低，則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解，留有一層光刻膠，在刻蝕時，這層膠會對膜面進行保護作用，使應該刻蝕的膜留下來。若顯影時間過長或溫度過高，顯影時未被曝光部位的光刻膠也會被從邊緣里鉆溶。使圖案的邊緣變差，再嚴重會使光刻膠大量脫落，形成脫膠。