一、ITO濺射靶材的制作方法
1、真空熱壓
真空熱壓利用熱能和機械能對ITO粉體進行致密化，可生產出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優(yōu)勢較小。
2、熱等靜壓
熱等靜壓（HIP）通過在壓力下燒結或在高溫下加壓來制備ITO濺射靶。與真空熱壓類似，HIP在加熱和加壓狀態(tài)下可以獲得高密度（幾乎是理論密度）和優(yōu)異的物理和機械性能的產品。但也受設備壓力和氣缸尺寸的限制。
3、常溫燒結
室溫燒結是先通過漿料澆注或預壓制備高密度靶材預制件，然后在一定氣氛和溫度下燒結得到ITO靶材。其最大的優(yōu)勢在于能夠生產大尺寸的濺射靶材。但與其他燒結方法相比，這種方法制成的靶材純度較低。
4、冷等靜壓
冷等靜壓（CIP）在常溫下以橡膠或塑料為覆膜材料，以液體為壓力介質傳遞超高壓。CIP還可以制備更大尺寸的ITO濺射靶材。而且價格便宜，適合大批量生產。但CIP要求材料在0.1~0.9MPa的純氧環(huán)境中經過1500~1600°C的高溫燒結，具有較高的風險。
二、ITO濺射靶材生產難點
1、粉末制備
粉末冶金最核心的競爭力就是粉體，能夠獨立生產高品質穩(wěn)定的粉體的公司，會在未來占有一席之地。
2、大尺寸燒結工藝
ITO靶材的另一個難點就是燒結工藝，精準的燒結工藝是燒結高品質靶材的關鍵。燒結工藝細分為真空熱壓法、熱等靜壓法、常壓燒結法。目前高端顯示器用鍍膜靶材主要采用常壓燒結法，性價比高。
3、成本投入較大
ITO生產中需要使用非常多的大型設備，如冷壓機，大型模壓機，燒結爐，加工設備及綁定設備，每一項的投入都非常大。整廠的設備投入預計在5000萬以上（年產50噸），且因為是能耗大戶，日常的能源消耗也是非?？捎^的，運營維護成本也比較高。
4、產品的驗證
如何能夠自主的驗證產品是否符合客戶的使用需求，是產品能否一次通過客戶驗證并且順利導入生產的關鍵因素，所以企業(yè)自己配套綁定檢測設備及鍍膜機就是保證。
